नियंत्रित वायुमंडल ताप उपचार के लिए प्रोग्राम करने योग्य मफल फर्नेस 1000 C

Name: नियंत्रित वायुमंडल ताप उपचार के लिए प्रोग्राम करने योग्य मफल फर्नेस 1000 C
Brand: Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd
SKU: hwf160-10nh
Availability: InStock

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(8)

भट्ठी के भाग
(2)

ग्राहक समीक्षा

प्रिय मूल्यवान भागीदार, पिछले वर्ष के दौरान आपके समर्थन और विश्वास के लिए धन्यवाद। आपके सहयोग के कारण ही हम अपने लक्ष्यों को सफलतापूर्वक प्राप्त करने में सक्षम हुए हैं। आने वाले दिनों में,हम अपने निकट सहयोग को जारी रखने और एक साथ और भी अधिक मूल्य बनाने के लिए तत्पर हैं. सबसे अच्छी शुभकामनाओं के साथ, [चीनी विज्ञान अकादमी]

—— चीनी विज्ञान अकादमी

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नियंत्रित वायुमंडल ताप उपचार के लिए प्रोग्राम करने योग्य मफल फर्नेस 1000 C

Controlled Atmosphere Programmable Muffle Furnace For Heat Treatment 1000 C

बड़ी छवि : नियंत्रित वायुमंडल ताप उपचार के लिए प्रोग्राम करने योग्य मफल फर्नेस 1000 C

उत्पाद विवरण:

Place of Origin:	China
ब्रांड नाम:	Chitherm
Model Number:	hwf160-10nh

भुगतान & नौवहन नियमों:

Minimum Order Quantity:	1
मूल्य:	negotiable
Packaging Details:	Customized
Delivery Time:	Customized
Payment Terms:	Customized
Supply Ability:	Customized

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नियंत्रित वायुमंडल ताप उपचार के लिए प्रोग्राम करने योग्य मफल फर्नेस 1000 C

वर्णन

Range of Applications:	Industrial	Type:	Electric Holding Furnace
Usage:	Ceramic Sintering	Fuel:	Electric
Atmosphere:	Vacuum/Nitrogen/Hydrogen	Effective Chamber Dimensions:	500500650mm(WHD)
Transport Package:	Wooden Packaging	Specification:	165019502000mm(WHD)
Trademark:	Chitherm	Origin:	China
HS Code:	8514101000	Supply Ability:	50 Sets/Year
Customization:	Available	प्रमाणन:	ISO
Place Style:	Vertical
प्रमुखता देना:	नियंत्रित वायुमंडल प्रोग्राम करने योग्य मफल ओवन , 1000 C प्रोग्राम करने योग्य मफल ओवन , गर्मी उपचार के लिए 1000C मफल ओवन

नियंत्रित वायुमंडल प्रसंस्करण Hwf160-10nh वैक्यूम वायुमंडल भट्ठी हीटर टैंक 1000 ऑर्डम सी आईएसओ प्रमाणन के साथ

1आवेदनः

यह भट्ठीमुख्य रूप से के लिए बनाया गया हैलोड करने की प्रक्रियाधातु के भाग और एचटीसीसी पैकेज, में भी इस्तेमाल किया जा सकता हैअन्यप्रक्रियाएस् जैसे कि decarburization, annealing, quenching, scorching, hardening, thermal decomposition. जैसे कि decarburization, annealing, quenching, scorching, hardening, thermal decomposition. जैसे की decarburization, annealing, quenching, scorching, hardening, thermal decomposition. जैसे कि decarburization, annealing, quenching, quenching, scorching, hardening, hardening, thermal decomposition. जैसे कि decarburization, annealing, quenching, scorching, hardening, hardening, hardening, thermal decomposition.

2.तकनीकी विनिर्देश:

नामित तापमान.:900oC
अधिकतम तापमान.: 1000oC
वायुमंडल: N₂, एच₂, आर्द्रता के साथ
ऑक्सीजन सामग्रीः O द्वारा मापी गई₂सामग्री विश्लेषक
मफल सामग्रीः SUS 310S
मफल आयाम: φ750 मिमी × 900 मिमी(d)×D)
प्रभावी Chअम्बरआयामs:500×500×650mm ((W×H×D)
लोड करने की विधिः मैनुअल, क्षैतिज गाइडवे शेल्फ के माध्यम से
ताप पद्धति: प्रतिरोध तार पूर्वनिर्मित हीटिंग प्लेट
ठंडा करने की विधिः ब्लोअर से हवा ठंडा करना
नियंत्रण स्थिरताः ±1पी.आई.डी. फंक्शन वाला नियंत्रक
प्रोफ़ाइल चरणः डिफ़ॉल्ट 20 चरण
अस्थायी।एकरूपताः ±5oC
थर्मोकप्लः प्रकार K
तापमान नियंत्रणः 3अंक
अस्थायी माप: 1 अंक
मैक्स.हीटिंग पावरः40 किलोवाट
विशिष्ट इन्सुलेशन शक्तिः ≤25 किलोवाट
ताप गति: ≤5oC/मिनट
भट्ठी की सतह का तापमानः≤40oC
अधिकतम वैक्यूम मानः ≤ 10Pa
निकास प्रणालीः H के साथ ऊपर 1 निकास पोर्ट₂इग्निटर
अलार्म प्रणालीः उच्च तापमान, थर्मोकपल टूटने, कम हवा के दबाव, कम पानी के दबाव, मानक से कम वैक्यूम स्तर आदि के मामले में श्रव्य और दृश्य अलार्म
वजनः 1500 किलोग्राम
रंगः हल्का ग्रे
बाहरी आयाम: 1650मिमी × 1950 मिमी × 2000मिमी (W×H×D)

1000º C Hwf160-10nh Vacuum Atmosphere Furnace, Heater, Tank

3वितरण सूची

तालिका 1 वितरण सूची
	पद	नोट	Qty.
मूल घटक	भट्ठी		1 एसईटी
	निरीक्षण प्रमाणपत्र	प्रमुख आउटसोर्स किए गए घटकों का प्रमाण पत्र	1 एसईटी
	तकनीकी दस्तावेज	प्रमुख आउटसोर्स किए गए भागों के निर्देश, तकनीकी दस्तावेज आदि	1 एसईटी
प्रमुख घटक	हीटिंग तत्व	एफईसी सिरेमिक फाइबर हीटर	1 एसईटी
	वैक्यूम प्रणाली		1 एसईटी
	टच स्क्रीन		1 एसईटी
	तापमान नियंत्रक	अज़बील	1 एसईटी
	थर्मोकपल	प्रकार K	1 पीसीएस
	पीएलसी		1 एसईटी
स्पेयर पार्ट	एसएसआर		1 पीसी

4.सुविधा की आवश्यकताण

पर्यावरणीय परिस्थितियाँ: अस्थायी: 0~40oC,आर्द्रता ≤ 80% आरएच, कोई संक्षारक गैस नहीं, हवा के प्रवाह में कोई भारी गड़बड़ी नहीं।
एन₂शर्तें:99.999% शुद्धता,कामकाजी दबाव:0.2-0.4MPa,अधिकतमगैस की खपत2-6m³/h.
H₂शर्तेंः कार्य दबाव:0.2-0.4MPa,अधिकतमगैस की खपत१-३m³/h.
पानी की स्थितिः स्वच्छ, कोई संक्षारक पानी नहीं, कार्य दबाव 0.1-0.3MPa, 3-9L/min
वेंटिलेशन प्रणालीः उपयोगकर्ता पंप प्रणाली के लिए संपर्क रहित पहुंच, पंप क्षमता 15 से अधिक हैm³/h
ग्राउंड आवश्यकताएंः क्षैतिज, कोई स्पष्ट कंपन नहीं, भार सहन करने की क्षमता> 500kजी/एम²;
शक्ति की स्थिति (TBD): क्षमता > 55kVA, 3-चरण 5-लाइन, वोल्टेज 220/380V, आवृत्ति 50Hz. फायर लाइनः पीला, हरा, लाल, शून्य लाइनः नीला, ग्राउंड लाइनः पीला-हरा;
स्थापना स्थल: 3000 मिमी ×2500 मिमी ×3000 मिमी ((D×W×H), एक स्थापना क्षेत्र से अधिक के साथ7.5m².

टैग:

व्यक्ति से संपर्क करें: zang

दूरभाष: 18010872860

फैक्स: 86-0551-62576378

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